LIC 4100 V 系列

真空應用的絕對式光學尺

  • 用於高移動速度的線性軸
  • 量測步距非常小的版本 (<1 nm)
  • 介面:EnDat、Fanuc、Mitsubishi、Panasonic和Yaskawa
  • 真空友善 PCB、黏合劑和塗料可減少釋氣
  • 通風孔可加快泵送速度 
  • 高烘烤溫度下的溫度穩定性
  • 非鐵磁性材料,處理可靠性高
  • 包裝前烘烤,清潔度高

用於高真空應用

真空技術在許多最先進的研究和生產過程中發揮關鍵作用,包括電子製造、薄膜技術、材料研究、生物技術、醫療技術和高科技實驗室設備。

高移動速度

卓越的精度和高移動速度是 LIC 光學尺的標誌。測量步長僅 1 nm,速度可達 600 m/min。這些編碼器具有高抗污染性,可提供高度可靠的位置回饋。

產品版本

開放型光學尺由 量測標準 和 掃描頭組成, 請從清單中選擇這兩個組件。如需進一步的諮詢支援,請通過電話或電子郵件或我們的 聯絡表聯絡我們的銷售部門。

量測標準

讀頭